BELFOR 對需要搬遷、儲存（長期/短期）、溢出/洩漏或污染的危險化學品/氣體/受污染的半導體工具/設備/輔助設施能進行廣泛的精密除污淨化和*回收工作。
我們一些具體的工具/設備經驗包括：
- 化學機械研磨 (CMP) 系統
- 化學氣相沉積（CVD，包括 PECVD 和 SACVD）系統
- 高溫爐管（氮化物、多晶、氧化物）
- 瓦斯控制面板
- 離子植入機
- 物理氣相沉積 (PVD) 系統
- 晶圓旋轉/沖洗乾燥機
- 步進曝光機
- 特氣分流閥組/箱 (VMB)
- 公用設施和支援系統
BELFOR 技術支援中心可以針對任何產業的各種獨特污染情況開發特定的除污淨化解決方案。
* 這裡的恢復定義是指設備的安全層面和狀況，而非指操作功能或設計參數的恢復。